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我国开发新型飞秒激光等离子激元光刻技术 可加工石墨烯
最新发现与创新
科技日报北京5月10日电 10日 ,国开光记者从中科院长春光学精密机械与物理研究所获悉,发新来自该所等单位的型飞烯研究人员,开发了一种新型飞秒激光等离子激元光刻技术(FPL) 。秒激factory supply tetramisole hydrochloride manufacturer利用该技术 ,离激研究人员在百纳米厚的元光硅基氧化石墨烯薄膜表面实现了高质量微纳周期结构的快速制备。相关成果发表在《光:科学与应用》上 。刻技
石墨烯被发现以来 ,术可石墨二维材料逐渐进入人们视野,加工成为材料领域的国开光研究热点。自组装 、发新china anisoyl chloride product电子束刻蚀和极紫外光刻等技术可以在石墨烯上制备微纳结构 ,型飞烯进而调控其带隙 、秒激吸收 、离激载流子迁移率等性能。元光但这些技术存在着耗时长 、china anisoyl chloride suppliers成本高 、缺乏通用性等问题。因此,如何降低成本 ,高效制备微纳结构石墨烯